産業ガス分野（分離・精製・回収など）
VSU
独自のプロセス、特殊真空断熱工法等により徹底した省エネルギーを達成した、液化窒素、液化酸素発生装置。
V1D、V2、V3
膨張タービンを使用せず寒冷源としてLN2や、LO2を注入することにより高純度窒素や酸素を発生する深冷空気分離装置。
VP、VPS
真空再生方式（PVSA方式）を採用したシンプルかつ高回収率な酸素ガス発生装置。
VH
独自の触媒を用い、天然ガス、LPG等を原料とした、省スペース、低コストな水素発生装置。
CO発生装置
VH装置で培われた改質技術と精製技術を応用した、オンサイト式一酸化炭素発生装置。
VA
深冷空気分離装置Vシリーズの技術を継承した、アルゴン回収精製装置。
ガス応用技術・低温技術
パルスチューブ冷凍機
アクティブバッファーにより高効率・高出力を可能としたパルスチューブ方式による極低温冷却技術。
LNGタンクコンテナ
極低温物質（-196℃の液体窒素等）を熱進入量を極限に抑えて貯蔵する断熱技術。
低温ポンプ
液化酸素、液化窒素、液化アルゴンをはじめとする多様な液化ガスの払出、充填、ボンベ充填、ローリー搭載などに使用される小型の昇圧、移送装置。
アクア・ガスジェネレーター
ガス切断用として水の電気分解により酸素と水素の混合ガスを発生させる装置で、切断速度が速く、切断面がきれいで、歪の少ないガス切断が可能。
溶接・溶断技術
アルゴンベース溶接用混合ガス「エルナックス」を用いた、溶接・溶断技術開発、品質評価。
炭酸ガス利用精密洗浄技術
ドライアイスを利用したドライプロセスで、乾燥工程が不要/廃水や廃液処理が不要な精密洗浄システム。
半導体関連技術
高純度アンモニア
電子デバイスの窒化膜生成など半導体用途の高純度アンモニア製造装置。
PFC回収精製装置
温暖化ガスであるPFC（CH4やSF6など）排出量削減に貢献する、世界で唯一の商品。
CMPスラリー調合供給装置
自動でスラリーを調合し、スラリーの性状を長期間安定に供給可能な装置。
VCE
超高真空CVDシステムで、選択成長や超格子構造等薄膜成長に優れた特性を示し、低コンタミ、大面積均一成膜、メンテナンスフリーで特に膜厚制御性が高い特徴を有する技術。
電子材料評価技術
長年培ってきた成膜技術・薄膜評価技術を用いた、新しく合成された半導体電子材料の物性評価。
表面処理技術
大気圧プラズマ
大気圧でグロー放電を発生させて表面改質する技術で、樹脂フィルムの濡れ性改善・接着性改善、ガラス基盤の洗浄やアッシング・エッチングが可能。
NV金属表面処理
窒化処理、炭素固溶拡散処理、窒化処理とクロム拡散処理を組み合わせた複合表面処理技術による金属表面処理技術。
医療関連技術
OXY
省エネ、コンパクト化されたPSA方式の在宅医療用酸素濃縮装置。
ガス性医薬品・投与装置
肺動脈が収縮した（肺高血圧症）新生児の呼吸不全状態の改善のためのガス性医薬品（NO：一酸化窒素）およびその投与装置。
コラーゲン
サケの皮から抽出された高純度の海洋性コラーゲン。
