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中小型深冷分離装置Vシリーズ

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V1装置(ノータービン式窒素ガス発生装置)

「V1装置」は高純度の窒素ガスを安定的に供給するノータービン式の深冷分離オンサイトプラントです。1983年に当社が開発したトラブルの少ないノータービン式という画期的なシステムを採用、低コストの窒素ガスを供給します。

発生量 700~5000Nm³/H

V1装置(ノータービン式窒素ガス発生装置)

V1X装置(ノータービン式小型窒素ガス発生装置)

「V1X装置」は小容量の供給に対応した深冷分離窒素ガスオンサイトプラントです。「V1装置」の流れを踏襲し、更にコンプレッサー、CEを含めた一体構造にすることにより省スペースを実現しております。

発生量 150~700Nm³/H

V1X装置(ノータービン式小型窒素ガス発生装置)

V2装置(ノータービン式酸素ガス発生装置)

「V2装置」はノータービン式の深冷分離酸素ガスオンサイトプラントです。ノータービンによる安定性に加え省スペース、低コストを実現しております。高純度から低純度までの酸素ガスが供給可能であり、主に鉄鋼向け溶解、化学反応、ガラス溶解等の用途に利用されます。

V2装置(ノータービン式酸素ガス発生装置)

V3装置(ノータービン式酸素ガス・窒素ガス併産型発生装置)

「V3装置」はノータービン式の深冷分離酸素・窒素ガスオンサイトプラントです。ノータービンによる安定性に加え省スペース、低コストを実現しております。高純度から低純度までの酸素ガス及び窒素ガスの供給が可能であり、主に鉄鋼、化学、ガラス分野の酸素ガス、窒素ガスの両方を大量にご使用される顧客に最適です。

V3装置(ノータービン式酸素ガス・窒素ガス併産型発生装置)