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ガスプラント・ガス発生装置

高純度窒素ガス発生装置「V1」

日本のエレクトロニクス産業とともに歩んだ革新的な窒素ガス供給技術

高純度窒素ガス発生装置「V1」は、液化窒素の冷熱を利用した熱交換により高純度窒素ガスを安定的に発生させる、エア・ウォーター独自の窒素ガス発生装置です。半導体や液晶パネルなどのエレクトロニクス製造ラインでは、雰囲気ガス用途をはじめとして超高純度の窒素ガスが大量に使用されます。そのため、低コストで窒素ガスを安定供給する方法として、現在このオンサイト方式による窒素ガス供給が最も一般的な供給モデルとなっています。
エア・ウォーターでは、お客様の使用条件に適した流量の窒素ガス発生装置の開発・設計からアフターメンテナンス、さらには液化窒素ローリーによるバックアップ供給まで、一貫したソリューションサービスを展開しています。

特長

低コストかつ高純度の窒素ガスを安定供給
  • オンサイト方式のため、液化窒素ローリー供給に比べて低コストかつ高純度な窒素ガスの安定供給が可能
ノンタービン方式
  • 液化窒素の冷熱を利用した熱交換方式のため、膨張タービン方式に比べて装置トラブルが少ない
ノンフロンタイプ
  • 冷却・吸着・熱交換の新システムの採用によりフロン冷凍機のない設備
精留に充填塔を採用
  • 精留塔の圧力損失を低減し、精留効率向上・低消費電力を実現
短期工事にも対応
  • 使用環境に最適なコンパクト設計のため、設置工事も短期間

設置実績・用途例

設置実績

高純度窒素ガス発生装置「V1」は、1983年にエア・ウォーターが国内で初めて独自開発に成功しました。その後、半導体メーカーで1号機が稼働をスタートして以来、液化窒素ローリー供給に変わる画期的なガス供給方法として採用が広がり、現在、国内のエレクトロニクス工場を中心に100基以上の設置実績を有しています。

用途例
  • 半導体、液晶・プラズマディスプレイ、太陽電池などエレクトロニクス製造プロセス
  • シリコン、繊維、薬品、鋼板、その他研究機関など

装置ラインアップ

省エネ・低コストを追求した超小型タイプ「V1X」から、大規模工場に対応した大型タイプ「V1D」まで、幅広いユーザーニーズに対応が可能な「V1」シリーズをラインアップしています。

名称 装置タイプ 発生量 純度
V1X 小型窒素ガス発生タイプ
GN 150 2,350 Nm³/h
99.99 99.9999
V1XT 液化窒素製造タイプ 別途ご相談ください
V1E 中型窒素ガス発生タイプ
GN 2,800 3,600 Nm³/h
99.99 99.9999
V1D 大型窒素ガス発生タイプ
GN 3,000 15,000 Nm³/h
99.99 99.9999
V1DT 大型窒素ガス発生タイプ
(少量液化窒素併産型)
GN 4,000 35,000 Nm³/h
LN 20 150 Nm³/h
99.99 99.9999
99.99 99.9999
V1DP 大型窒素ガス発生タイプ
(少量酸素ガス併産型)
GN 4,000 35,000 Nm³/h
GO 50 300 Nm³/h
99.99 99.9999
90 99.8

システムフロー

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