中小型ガスプラント
高純度窒素ガス発生装置「V1」を中心に、エレクトロニクスやガラスなどの産業に不可欠な高純度の窒素ガス・酸素ガスを、中小型ガスプラントによるミニオンサイト方式で供給します。
窒素ガスを優先的に吸着する吸着剤（ゼオライト）を利用して空気中より酸素ガスを分離し供給します。主に、電炉やパルプ漂白、ガラス溶融などの分野に利用されます。
吸着剤（MSC）で酸素ガスを吸着し窒素ガスを供給する「PSA式」と、膜モジュールで酸素ガスを分離し窒素ガスを供給する「膜式」の窒素ガス発生装置をそれぞれ展開しています。
天然ガスを原料とする当社独自開発の熱中和型水素ガス発生装置で、環境汚染物質であるNOx、SOxを排出しない、よりクリーンな水素ガスのオンサイト供給を実現しています。
水素ガス発生装置で培った当社独自の熱中和式改質技術と、PSA法による吸着分離技術を応用して、天然ガスを原料としたオンサイト式一酸化炭素発生装置の開発に取り組んでいます。
粗ガスより水素を精製発生させる装置です。吸着塔内に充填された吸着剤は不純物を吸着除去するため、濃度の高い水素ガスを得ることができます。